传统“反渗透+离子交换树脂”工艺需定期用酸碱再生树脂,存在三大痛点:停机维护影响连续生产、酸碱废液增加环保成本、产水稳定性差(电阻率波动大)。EDI模块通过电场驱动离子迁移,同步完成纯化与电极再生,无需酸碱、连续产水、产水电阻率≥18.2 MΩ·cm(超纯水标准),彻底解决上述问题。
光刻、蚀刻等工艺需超纯水(电阻率≥18.2 MΩ·cm,硅/硼含量极低)。EDI产水硅含量<5 ppb(树脂工艺>10 ppb)、稳定性±0.1 MΩ·cm(树脂波动±2 MΩ·cm),避免晶圆微观缺陷,保障良率。
注射用水需电导率≤0.2 μS/cm(电阻率≥5 MΩ·cm)、无化学残留。EDI无酸碱引入,产水电导率稳定(0.055-0.1 μS/cm)、细菌内毒素低,满足FDA/GMP要求。某药企替换树脂系统后,通过FDA检查且染菌率下降99.9%。
MLCC清洗、LED电镀等需极低离子残留(钙/钠离子<0.1 ppb)。EDI产水纯净度高,且连续供水匹配高速生产线,避免批次报废。
相比传统技术,EDI在无化学污染、产水稳定性、运维成本、合规性上全面领先,已成为半导体、制药、高端电子等领域纯水系统的标配。随着这些行业向更精密、更绿色升级,EDI的刚性需求只会愈发凸显——它是关键场景中保障品质与效率的“水纯化刚需”。
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